開示情報 > シリコンスタジオ、所属エンジニアの共著による論文が画像電子学会において最優秀論文賞および西田賞をダブル受賞

シリコンスタジオ、所属エンジニアの共著による論文が画像電子学会において最優秀論文賞および西田賞をダブル受賞

シリコンスタジオ、所属エンジニアの共著による論文が画像電子学会において最優秀論文賞および西田賞をダブル受賞

開示者 【39070】シリコンスタジオ株式会社
文書名 シリコンスタジオ、所属エンジニアの共著による論文が画像電子学会において最優秀論文賞および西田賞をダブル受賞  
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開示日時 2018/06/28 チャネル/カテゴリ 東京証券取引所 /PR情報
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