開示情報 > 次世代半導体の微細回路形成を実現するEUV露光機用ペリクルの要素技術を確立

次世代半導体の微細回路形成を実現するEUV露光機用ペリクルの要素技術を確立

次世代半導体の微細回路形成を実現するEUV露光機用ペリクルの要素技術を確立

開示者 【79660】リンテック株式会社
文書名 次世代半導体の微細回路形成を実現するEUV露光機用ペリクルの要素技術を確立  
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開示日時 2023/12/12 チャネル/カテゴリ 東京証券取引所 /PR情報
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